Éxito | El secreto detrás de la innovación tica en la Gran Manzana

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Nueva York es la cuna de la moda, llegar a sus pasarelas es todo un reto, lujo, sólo para luego hacer alarde de ese gran triunfo. Conquistar por medio de diseños fue un reto al que se sumó EPSON con su tecnología de punta que supieron aprovechar diseñadores costarricenses.

Daniel del Barco y Sonia Chang estuvieron presentes en el Fashion Week New York y nos cuentan los restos, aprendizajes y orgullo que hoy se convierten en parte de su historia personal y de emprendimiento.

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